Beschaffung eines dedizierten Elektronenstrahllithografie-Systems
Ludwig-Maximilians-Universität München, Münchenvergeben
- Frist (abgelaufen)
- vor 893 Tagen abgelaufen
- Geschätzter Wert
- nicht angegeben
- Verfahren
- Offenes Verfahren, Lieferung
- Ort der Leistung
- München (Stadt) · Bayern
- Veröffentlicht
- Branche
- Labor und Messtechnik
- CPV
- 38400000 Instrumente zum Prüfen von physikalischen Eigenschaften
Beschreibung
Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung eines dedizierten Elektro-nenstrahllithographiesystems zur nanoskaligen Strukturierung dünner Polymerfilme mittels elektrostatischer Rasterung eines fokussierten, hochenergetischen Elektronenstrahls für die Erforschung zweidimensionaler Materialien in quantenphysikalischen Experimenten.
Zuschlag
Den Zuschlag erhielt Raith GmbH aus Dortmund am 26.04.2024. 1 Angebote gingen ein.
- Los 1Raith GmbH, Dortmund26.04.2024
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