Tender Republic Ausschreibungen

ICP-Ätzanlage

Universität Paderborn, PaderbornFrist abgelaufen

Frist (abgelaufen)
vor 627 Tagen abgelaufen
Geschätzter Wert
nicht angegeben
Verfahren
Offenes Verfahren, Lieferung
Ort der Leistung
33098 · Paderborn · Nordrhein-Westfalen
Veröffentlicht
Für KMU geeignet
keine Angabe des Auftraggebers
CPV
38970000 Technischer Simulator für Forschung, Prüfungen und Wissenschaft

Die Vergabeunterlagen liegen auf der Plattform des Auftraggebers.

Beschreibung

Ausgeschrieben wird eine Anlage zum reaktiven Ionenätzen mittels induktiv gekoppeltem Plasma (ICP-RIE). Die Anlage soll ein Kernstück der waferprozessierenden Infrastruktur darstellen und wird im Reinraum der Universität Paderborn aufgestellt. Die Entwicklung von waferskaligen Bauelementen stellt große Anforderungen an die Wafergröße (bis zu 8 Zoll), die Strukturgröße und die Strukturhomogenitäten. Die verwendeten optische Bauelemente basieren auf Wellenleiterstrukturen, die extrem hohe Anforderungen an die Strukturhomogenität und Seitenrauheit stellen. Es sollen Rippenwellenleiter über eine Länge von mehreren Millimetern mit einer hohen Homogenität geätzt werden.

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