Integrated Measurement System CMP04
Fraunhofer Institut Photonische Mikrosysteme IPMSFrist abgelaufen
- Frist (abgelaufen)
- vor 329 Tagen abgelaufen
- Geschätzter Wert
- nicht angegeben
- Verfahren
- Öffentliche Ausschreibung
- Ort der Leistung
- Dresden, Klotzsche · Sachsen
- Veröffentlicht
Die Vergabeunterlagen liegen auf der Plattform des Auftraggebers.
Beschreibung
For an Ebara F-EX200M2 chemical-mechanical-polishing (CMP) system an integrated measurement system is needed. The CMP system is prepared with so called "NOVA ready - kit" which means all connections and the tool frame for an NOVA 2040dry system are available on customer site. Each measurent system needs to be able to fit to this frame and communication connections. Integrated Measurement System CMP04