MBE-Sputtering-Dünnschicht- Wachstumsanlage
Universität Regensburg, RegensburgFrist abgelaufen
- Frist (abgelaufen)
- vor 1288 Tagen abgelaufen
- Geschätzter Wert
- nicht angegeben
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Ort der Leistung
- Regensburg · Bayern
- Veröffentlicht
- Branche
- Labor und Messtechnik
- CPV
- 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Die Vergabeunterlagen liegen auf der Plattform des Auftraggebers.
Beschreibung
Los 1: Die Universität Regensburg plant in der Fakultät für Physik die Beschaffung eines neuen Clusters bestehend aus Anlagen für Molekularstrahlepitaxie (MBE), einer Aufdampf- bzw. Oxidationsanlage und eines Sputtersystems. Die MBE ist dabei der unter anderem epitaktischen Abscheidung von Materialien mit hohem Schmelzpunkt und niedrigem Dampfdruck (z. B. Pt,Ta,W) sowie von Metallen mit Schmelzpunkten bis 1500°C und Oxiden gewidmet. Es soll dabei ein Multi-Pocket-Elektronenstrahlverdampfer mit Flussratenmessung zum Einsatz kommen, sowie die Möglichkeit geboten werden, das Substrat auf 1000°C heizen und <120K zu kühlen. Los2: Die Sputteranlage soll dabei das Abscheiden von antiferro- und ferromagnetischen Materialien, sowie Materialien mit hohem Spin-Hall-Winkel (z.B. Pt, Ta, W) und guter magnetischer Kopplungseigenschaft (z.B. Ru, Ir) zweier magnetischer Lagen übernehmen. Es werden mindestens 8 Sputterquellenflansche für 2?-Sputterquellen benötigt. MBE-Sputtering-Dünnschicht- Wachstumsanlage
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