PVD System
Technische Universität Hamburg, Hamburg
- Frist (abgelaufen)
- keine Frist angegeben
- Geschätzter Wert
- nicht angegeben
- Ort der Leistung
- Hamburg · Hamburg
- Veröffentlicht
- Branche
- Elektrotechnik
- CPV
- 31640000 Maschinen, Apparate und Geräte mit eigener Funktion
Beschreibung
Beschaffung eines PVD Systems, geeignet für die Abscheidung metallischer und nichtmetallischer Schichten mittels Kathodenzerstäubung nach dem DC und RF Prinzip mit Magnetron auf unterschiedlichen Substraten (Silizium, Glas, Keramik und Polymeren) in Größen von Chips 10x10 mm² bis 100 mm Wafern. PVD System
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