Reactive ion etcher
Max-Planck-Institut für Struktur und Dynamik der Materie, HamburgFrist abgelaufen
- Frist (abgelaufen)
- vor 159 Tagen abgelaufen
- Geschätzter Wert
- nicht angegeben
- Verfahren
- Nichtoffenes Verfahren, Lieferung
- Veröffentlicht
- Für KMU geeignet
- keine Angabe des Auftraggebers
- Branche
- Elektrotechnik
- CPV
- 31712000 Mikroelektronische Maschinen und Geräte und Mikrosysteme31720000 Elektromechanische Ausrüstung · 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Die Vergabeunterlagen liegen auf der Plattform des Auftraggebers.
Beschreibung
Herstellung, Vertrieb und Service von Plasmaätzanlagen (RIE/ICP-RIE) für die Mikro- und Nanofabrikation. Genaueres entnehmen Sie bitte aus dem Lastenheft.
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