Upgrade of a 200 mm WxZ Tungsten CVD Chamber to WxZ Sprint Configuration
IHP GmbH - Leibniz-Institut für innovative Mikroelektronik, Frankfurt (Oder)Frist abgelaufen
- Frist (abgelaufen)
- vor 90 Tagen abgelaufen
- Geschätzter Wert
- nicht angegeben
- Verfahren
- Verhandlungsverfahren mit Teilnahmewettbewerb, Lieferung
- Ort der Leistung
- Frankfurt (Oder) · Frankfurt (Oder) (Stadt) · Brandenburg
- Veröffentlicht
- Für KMU geeignet
- ja, laut Bekanntmachung
- CPV
- 42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke31712100 Mikroelektronische Maschinen und Geräte
Die Vergabeunterlagen liegen auf der Plattform des Auftraggebers.
Beschreibung
Gegenstand der Beschaffung ist das Upgrade eines bestehenden 200 mm Wolfram Chemical Vapor Deposition (CVD)-Systems des Herstellers Applied Materials Inc. (AMAT) auf eine WxZ Sprint Konfiguration. Hierzu sind insbesondere Anpassungen am Gasverteilungssystem zur Realisierung eines gepulsten Wolfram-Abscheidungsprozesses sowie die Integration zusätzlicher Hardware zur Ermöglichung von Depositionsdrücken bis 300 Torr erforderlich. Die Leistungen umfassen die Planung, Lieferung, Integration, Inbetriebnahme und Qualifizierung der erforderlichen Hard- und Softwareanpassungen am bestehenden Anlagensystem.