Chemisch-mechanische Poliermaschine

Friedrich-Schiller-Universität Jena, Jena

Frist: 13.10.2026, 10:00 Uhrin 8 Tagen
Geschätzter Wert: nicht angegeben
Verfahren: Offenes Verfahren, Lieferung
Ort der Leistung: Jena (Stadt) · Thüringen
Veröffentlicht: 08.09.2026
Für KMU geeignet: keine Angabe des Auftraggebers
Branche: Labor und Messtechnik
CPV: 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)

Die Vergabeunterlagen liegen auf der Plattform des Auftraggebers.

Beschreibung

Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für Ihre wissenschaftliche Tätigkeit die Anschaffung einer chemisch-mechanischen Poliermaschine (CMP) für das Polieren von Halbleiter- und Dielektrikaoberflächen für optische Anwendungen. Sie muss für Probengrößen bis hin zu Wafern (Halbleiterscheiben) mit Durchmessern von bis zu 100 Millimeter geeignet sein, Rauigkeiten kleiner als 1 Nanometer (RMS-Rauigkeit) erreichen können. Daraus ergeben sich folgende Mindestanforderungen: siehe Anlage 2 Die Vergabestelle behält sich vor Angebote über einem Gesamtauftragswert von 225.000,00 Euro netto von der Wertung auszuschließen. Liegen alle Angebote über dieser Grenze, ist die Vergabestel-le berechtig die Ausschreibung aufzuheben.

Beschreibung

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