Ultra-high Resolution Electron-beam Lithography System
Öffentliche Ausschreibung in Zürich, Schweiz von ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services. Angebote bis 10.11.2026, 23:58 Uhr.
Eckdaten
- Auftraggeber
- ETH Zürich - Abt. Procurement & Export Services
- Ort
- Rüschlikon, Zürich
- Angebotsfrist
- 10.11.2026, 23:58 Uhr
- Veröffentlicht
- 02.10.2026
- Verfahrensart
- Offenes Verfahren
- Branche
- Labor und Messtechnik
- CPV
- 38000000
- Geschätzter Wert
- nicht angegeben
Quelle: TED, Supplement zum Amtsblatt der Europäischen Union, Bekanntmachung 679334-2026 vom 02.10.2026. Zusammengefasst; maßgeblich ist die veröffentlichte Bekanntmachung.
Die Vergabeunterlagen liegen auf der Vergabeplattform; den Link sehen registrierte Nutzer: Kostenlos registrieren oder anmelden.
Beschreibung laut Bekanntmachung
The B & R Nanotechnology Center (BRNC) at ETH Zurich invites tenders for the purchase of one (1) ultra-high resolution electron-beam lithography (EBL) system. The system will be used for a variety of research activities of internal and external users, ranging from the generation of high-precision structures at the nanometer level to the rapid exposure of complex structures over large areas. The scope includes delivery, installation, training and acceptance of the system.
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Daten: TED (Supplement zum Amtsblatt der EU). Quellen und Lizenzen